半导体设备巨头中微公司近日在上海临港举办了一场重要的业绩说明会，同时面向媒体开放交流。会上，中微公司透露了其在薄膜沉积设备业务上的最新进展与未来规划。
据悉，中微公司在2024年成功实现了LPCVD（低压化学气相沉积）设备的首次销售，全年设备销售额达到约1.56亿元。公司还在积极研发PECVD（等离子化学气相沉积）和ALD（原子层沉积）等设备，进一步拓展薄膜设备的产品线。
中微公司董事长尹志尧在接受采访时表示，尽管目前薄膜设备相关的收入规模相对较小，但公司正在全面布局并加速开发新产品。他预计，在未来三到五年内，薄膜设备业务将迎来快速增长。
薄膜沉积设备在半导体前道设备市场中占据重要地位，其市场体量仅次于光刻设备。作为国内刻蚀设备的领军企业，中微公司近年来也在积极拓展薄膜设备业务。尹志尧介绍，中微公司正在不断开发多种薄膜沉积设备，以扩大产品覆盖度。
在谈及中微公司LPCVD设备与国内其他头部设备厂商的差异时，尹志尧表示，中微公司在研发设备时，始终坚持自主创新，不盲目跟随外国设备的设计。他强调，中微公司会分析国际上领先厂商的设备，找出它们的优点和缺点，然后开发出具有自主知识产权、具有竞争力的差异化设备。
根据中微公司2024年年报，近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备已经顺利进入市场，并获得重要客户的重复性订单。其中，LPCVD薄膜设备累计出货量已突破150个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备的研发进程也进展顺利，有望尽快进入客户验证阶段。
除了薄膜设备业务外，中微公司的刻蚀设备业务也取得了显著进展。尹志尧介绍，近年来，中微公司的ICP（电感性耦合的等离子体源）设备取得了高速增长，2024年新增订单达到41.08亿元，同比增长89.5%。他透露，现在中微公司开发新产品的速度已经大大加快，只需要约18个月就可以完成一个新产品的研发，进入市场半年到一年就可以实现量产。
在研发投入方面，尹志尧表示，过去20年，中微公司的大部分研发投入都集中在刻蚀设备上，刻蚀设备的研发比例长期保持在70%左右。但近年来，随着薄膜设备业务的拓展，越来越多的研发投入被投入到薄膜设备的研发上。尹志尧预计，未来薄膜设备的收入体量将会快速增长。
