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北京大学团队突破技术瓶颈 1纳米晶体管助力人工智能芯片节能高效发展

2026-02-27来源:快讯编辑:瑞雪

在人工智能技术飞速发展的当下,传统硅基芯片的局限性日益凸显。这类芯片采用数据存储与计算分离的设计架构,在处理复杂任务时,数据需在存储单元与处理器间频繁传输,不仅消耗大量时间,更导致能源利用率低下。随着量子计算等新兴技术的崛起,硅芯片高耗能、易发热的缺陷愈发明显,难以满足人工智能领域对海量数据处理的迫切需求。

面对这一挑战,北京大学科研团队提出创新解决方案——开发铁电场效应晶体管(FeFET)。这种新型晶体管模仿人类大脑的工作模式,将数据存储与处理功能集成于同一单元,从根源上消除数据传输的能耗。然而,早期FeFET存在致命缺陷:其工作电压高达1.5V,远超现代逻辑电路0.7V的标准,导致能耗居高不下。科研人员形象地比喻:"这就像推一扇沉重的铁门,需要耗费巨大力气。"

突破性进展来自对晶体管结构的革命性改造。研究团队运用原子级精度的加工技术,将栅电极尺寸压缩至1纳米——仅相当于DNA分子宽度的一半。这种纳米级结构能更精准地控制铁电层电场,使晶体管工作电压骤降至0.6V。实验数据显示,新型晶体管的能耗仅为传统FeFET的十分之一,同时保持了1.6纳秒的极速响应能力,在节能与性能间实现完美平衡。

这项成果为人工智能芯片发展开辟新路径。相比通过扩大芯片尺寸提升算力的传统方法,新型FeFET通过架构创新实现性能跃升,其微米级尺寸更符合集成电路小型化趋势。目前,北京大学已为该技术申请专利保护,相关工艺有望推动数据中心向绿色节能转型,并为高性能计算芯片设计提供全新范式。

科研团队透露,这项突破不仅限于当前成果,其技术原理为开发亚1纳米级芯片节点提供了理论支撑。随着研究深入,未来可能诞生更小尺寸、更低功耗的智能芯片,为人工智能、物联网等领域带来颠覆性变革。这项由中国科学家主导的原始创新,正在重新定义集成电路的发展边界。

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