今日，拓荆科技在复牌后呈现出剧烈的股价波动，引发市场广泛关注。开盘后，其股价迅速攀升，盘中一度触及910元的高点，随后震荡回落，午后跌幅进一步扩大，最低探至680.05元。尽管如此，股价在尾盘阶段有所回升，最终报收868.23元，涨幅超过4%，全日振幅高达27.64%。
自4月8日启动上涨以来，拓荆科技在半导体设备板块中表现尤为亮眼。截至今日盘中触及的910元高点，其最大涨幅已达160.66%，成为近期市场关注的焦点之一。这一强劲走势不仅体现了投资者对其未来发展的信心，也反映了半导体设备行业整体的热度。
市场对拓荆科技的高度关注，主要源于其近期公布的重大资产重组预案。根据预案，公司计划通过发行股份及支付现金的方式，收购无锡尚积半导体科技股份有限公司100%的股权，并募集配套资金。无锡尚积在PVD、CVD薄膜沉积设备及刻蚀设备领域具有国内领先地位，尤其在功率半导体、MEMS和射频芯片等细分市场表现突出。此次并购被视为拓荆科技完善产品布局、强化全品类半导体设备战略的重要一步。
无锡尚积的技术实力不容小觑。其自主掌握氧化钒薄膜沉积、化合物衬底金属功能薄膜沉积、碳基芯片金属薄膜沉积等多项关键技术，是国内半导体特色工艺产线自主可控的核心供应商之一。根据重组预案，无锡尚积2025年预计实现营收3.41亿元，主要产品聚焦PVD设备，进一步凸显了其在细分领域的技术优势和市场潜力。
拓荆科技表示，本次交易将快速补齐公司核心产品线，尤其是在PVD和刻蚀设备领域的短板，从而加强在半导体设备领域的战略布局。公司近期还申请了多站腔体结构及薄膜沉积设备相关专利，持续在核心技术层面构建竞争壁垒，为未来发展奠定坚实基础。
