在当前全球芯片制造业中，光刻技术依然占据着举足轻重的地位。光刻机的性能直接决定了芯片制造的精度和效率，而荷兰ASML公司凭借其在EUV（极紫外光刻）和浸润式DUV（深紫外光刻）光刻机领域的垄断地位，对全球晶圆厂产生了深远影响。
ASML的光刻机，特别是EUV光刻机，成为了全球芯片制造领域的“香饽饽”。然而，美国对ASML光刻机的销售实施严格控制，与ASML形成联盟，从而在一定程度上掌控了全球芯片制造产业，尤其是先进芯片制造领域。这种控制，使得许多国家和地区在获取先进光刻机方面面临重重困难。
中国作为全球芯片制造的重要一环，同样受到了这一局势的波及。中国芯片厂商一直渴望引进EUV光刻机以提升自身技术水平，但遗憾的是，由于美国的阻挠，ASML始终未能向中国出售EUV光刻机。目前，中国能够获得的，仅限于浸润式DUV光刻机，而即便是这种较为先进的光刻机，其销售也逐渐受到许可证制度的限制。
ASML的首席执行官Christophe Fouquet在近日的专访中坦言，由于美国的禁令，中国芯片制造技术相较于西方落后了10至15年。这一说法虽然听起来有些夸张，但仔细分析，却并非无的放矢。以中芯国际为例，早在2019年，中芯曾有意向购买ASML的EUV光刻机，并成功下单。然而，由于美国的干预，这笔交易最终未能成行。如果当时中芯能够顺利获得EUV光刻机，在梁孟松及其团队的共同努力下，中芯国际或许能够顺利进入3nm工艺时代，甚至与台积电一较高下。
然而，现实是残酷的。由于EUV光刻机的缺失，中芯国际在先进工艺方面的进展受到了严重阻碍。目前，中芯国际公开的最高工艺水平为14nm FinFET技术，而台积电则即将迈入2nm时代。这一差距，无疑让中国芯片产业感受到了巨大的压力。
EUV光刻机，已经成为阻碍中国芯片技术进步的一道难关。然而，面对困境，中国芯片产业并未选择退缩。相反，他们正在积极寻求突破，努力攻克浸润式DUV和EUV光刻机的核心技术。一旦成功掌握EUV光刻机技术，中国芯片产业将彻底摆脱美国的束缚，实现真正的自主可控。届时，中国芯片产业的实力将大幅提升，甚至有望在全球芯片市场中占据领先地位。
